等離子體增強化學氣相沉積(plasma enhanced chemical vapor deposition，PECVD) 等離子體增強化學氣相沉積-制取方法 在沉積室利用輝光放電使其電離后在襯底上進行化學反應沉積的半導體薄膜材料制備和其他材料薄膜的制備方法。等離子體增強化學氣相沉積是：在化學氣相沉積中，激發(fā)氣體，使其產生低溫等離子體，增強反應物...

壓電納米位移臺是通過壓電馬達驅動控制的電動位移臺，不同于傳統(tǒng)的步進馬達，直線電機，電磁馬達等驅動形式，壓電馬達是利用逆壓電效應的原理，通過壓電陶瓷在電場作用下（一般在共振狀態(tài)下）產生的形變，由摩擦耦合推動滑臺動子的運動，從而驅動平臺的位置移動。壓電納米位移臺斷電時保持自鎖，從而不消耗能量，不發(fā)熱...

納米位移臺的應用領域有哪些？卓聚科技小編為大家介紹一下納米位移臺的應用有哪些和組成。 納米位移臺的特點是納米級高分辨率及精度、毫秒至亞毫秒級快響應速度、簡便的控制方式、低成本等，因此具有非常廣泛的應用領域，如顯微成像、激光加工（晶圓切割）、微納車削加工、圖像分辨率增強、光學檢測移相器等快速微納致動...

什么是壓電多軸納米位移臺？壓電多軸納米位移臺是多個納米位移平臺組合而成的多軸運動和定位產品，包括2軸，3軸，4軸，5軸等，形式多樣，可根據需要定制。   壓電多軸納米位移臺適用于物理科學，工業(yè)，半導體等領域，多軸納米位移臺，分辨率高，行程大，操作簡單，定位準確，能在真空下使用等優(yōu)點。 點擊圖片了解...

壓電納米位移臺廠家，卓聚科技擁有核心的壓電驅動納米位移臺技術，在松山湖材料實驗室有自己的研發(fā)團隊，所研發(fā)的壓電納米位移臺可以實現(xiàn)納米級別的位移，可以用于對精度要求很高的科學實驗，制造和半導體工業(yè)等領域。 卓聚科技的壓電納米位移臺有幾種，直線納米位移臺，多軸納米位移臺，旋轉納米位移臺，可以幫助研究員...

等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)哪些部分組成(PECVD)？很多老師不了解PECVD的組成，下面卓聚科技小編為大家介紹一下。 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)（PECVD），生長樣品腔的管徑60-120mm，它是由高溫管式爐、多路高精度流量控制與供氣系統(tǒng)、機械泵、真空密封及測量系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)組成，極限真空度可達 10^-5 torr 。 ...